未被光刻胶掩蔽的部分通过选择性去掉，从而将预先定义的图形转移到硅片的材料层上的步骤。
而目前的蚀刻设备分为三类，分别是介质蚀刻机、硅蚀刻机、金属蚀刻机，三者占比为48%、47%、5%，介质蚀刻机和硅蚀刻机是市场上主流的蚀刻设备。
中微半导体的蚀刻机属于介质蚀刻机，而北方华创的蚀刻机属于硅蚀刻机和金属蚀刻机。
半个小时之后，一台硅蚀刻机出现在无尘实验室里面。
思维社的工程师推着一台特制的电脑设备，将一条条数据线连接到硅蚀刻机的系统上。
然后从原始母本系统复制导出一个操作系统，又将硅蚀刻机原来的系统复制一份，两个复制体融合在一起，形成专业的硅蚀刻机操作系统。
最后导入硅蚀刻机，将原来的操作系统覆盖了。
不过到了这一步，事情还没有结束，一个操作系统并不是看设计得多么精妙，而是和设备相辅相成。
接下来需要进行半自动适应调整，不断在运行之中，将软件和硬件融为一体。
启动内部网络之后，硅蚀刻机的系统连接到思维社超算中心里面，在庞大的运算力支持下，就可以进行半自动适应调整。
带队工程师转过头说道：“麻烦王总，让你们的技术员操作硅蚀刻机工作，我们需要在运行的过程中调整参数和系统。”
“没问题。”王云深连忙挥挥手，让三个技术员上。
这个工作进行了两天时间。
此时这一台工作精度为40～24纳米硅蚀刻机，已经变成一台精度为40～16纳米的硅蚀刻机。
在这个过程中不仅仅修复了大量的漏洞，还有错误参数，更是将设备的精度提升到机器的性能极限，稳定性更是变得坚若磐石。
放下测试报告，王云深和张厚德等人已经惊呆了。
事实上同样的设备，不同的操作软件，是会造成天壤之别的，特别是在精密仪器行业，国内就是吃了这个暗亏。